寧波廠家生產供應[水磨拋光機】_昆山精創厚德五金機械裝備有限公司

寧波廠家生產供應[水磨拋光機】

拋光過程是水、拋光劑、拋光模和玻璃之間化學作用的結果。化學作用主要是再玻璃表面發生水解作用。

主要根據如下：

水對玻璃的作用

拋光模材料的化學作用

拋光劑的化學作用

拋光液PH值的影響

添加劑的化學作用

玻璃的化學作用

我們以拋光模材料的化學作用分析，例如光學拋光模材料的低溫拋光原理，溫度是一個物理量，上的各種物質在其所在的環境中都表現出具有溫度，溫度的高低和物理熱有關，熱的本質是物質中的原子不斷振動的一種表現，溫度高表示其組成原子很混亂，低溫狀態下

原子可以秩序井然。高溫可以達到很高的程度，原子的混亂不斷加大，物質由固體變成液體，

再由液體變成氣體。而低溫是有限的，—273.15℃是溫度零度，表示為0K因而常溫一般在300K左右，0℃是273K。低溫是指0℃以下，即273K以下的溫度範圍。自然界有低溫物質和低溫環境，在實驗室獲得低溫要人工制冷，對我們搞低溫拋光來說，就是使被加工的光學材料和加工空間達到並保持所需的低溫。各種物質在低溫環境中，隨冷凍深度的不同，物質表現了不同的特性，在低溫應用工程的研究中，有人把環境溫度低到123K(一150℃)稱為普冷區，把123K到OK(一273． ℃)稱為深冷區。我們的工作是在零下一30～一50℃的環境中進行的，光學材料在低溫狀態下的加工特性是我們要研究的，在低溫狀態下進行光學拋光，要解決低溫狀態下的拋光模、工件和工藝過程的低溫環境等問題，由於冷凍深度較淺，所以我們叫這種拋光方法為淺低溫拋光

拋光模層：在切削加工中採用低溫技術可用幹切法，即切削時不加冷卻液。在磨削加工中採用低溫技術，困難的事可能莫過於低溫磨削液了，因為找到一種在0℃以下仍具有良好的流動性的磨削液絕非易事。一般水溶性磨削液在5℃，非水溶性磨削液在一5℃時流動性就很差了。我們一直在努力尋找一種能避開這種困擾的方法，日本學者橫川和彥在研究磨削技術的過程中，從改善加工環境的目的出發，提出了向加工區噴射冷空氣的想法，大森整做了冰凍砂輪實驗，這些都很有創造性對我們很有啟發。在光學冷加工中。
水作為磨料的載體同時也是冷卻劑，無論是散粒磨料還是固著磨料拋光中都離不開水，所以還是要在水上想辦法。
傳統的光學拋光一般使用鑄鐵盤，表面致以拋光模，敷料中常用的是瀝青，還有錫、絨布和聚氨脂等，教以瀝青的拋光盤可以做出一個準確的外部幾何形狀，例如平面、凹球面和凸球面，然後在其表面上雕刻出縱橫溝槽，形成許多個小方塊，溝槽可以容納磨料和拋光液，許多個小方塊和工件相接觸並相對作滑動運動，在磨料的作用下，形成對工件的切削運動，產生我們所要求的拋光效果。若在低溫下拋光，必需創造低溫環境條件，包括把瀝青盤或錫盤冷卻到所要求的低溫，然後進行低溫下拋光，但低溫下的瀝青和錫會有那些新特點，是需要我們解決的問題，我們沒有這樣作。
我們走的是另外一條路：把拋光液冷凍在拋光盤上，形成一個冰的拋光模層，這樣我們可以得到一個同樣形狀準確的拋光模層，例如一個平面的拋光模層。即和鑄鐵盤瀝青模層完全一樣的拋光模，它本身含有磨料類似固著磨料磨盤，當冰模層和工件相接觸並做相對運動

時，就產生切削運動，就產生拋光效果。同時，可根據加工材料的不同調整冷凍深度來調整冰模層的硬度。

拋光波：光學拋光中使用的磨料很多，例如Al 2 O 3 、 CeO 2 、Gr 2 O 3 和SiO 2 等等，拋光使用的磨料粒度、磨料粒子的形狀都直接影響拋光效果，磨粒的形狀，不同磨料是不一樣的，磨料粒度還是細的好，好選用納米(nm)級磨料，根據被拋光材料的不同，對表面質量要求的不同，適當地選用不同種類、不同粒度的磨料。

磨料加水形成的懸浮液，就是我們拋光工作中使用的拋光波。這種懸浮液可能呈弱鹼性或弱酸性， pH值可隨時調整，主要是使在拋光過程中不至於腐蝕工件。懸浮液中要求磨料具有良好的分散性，不能結團，所以要在懸浮液中加入分散劑。磨料粒度的均勻一致是比較難達到的，主要是限制大顆粒，防止表面被劃傷。
冷凍磨料懸浮液，由液體變成低溫固體需要一個冷凍的時間過程，這個時間過程應盡量縮短，以防冷凍過程中磨料的沉積所造成冷凍後的冰拋光模層底層磨料很集中，而上層磨料相對較少。對於大於μm量級的磨粒，在分散介質中作勻速運動，按Stokes定律，其沉降速度

其中，d為顆粒半徑，g為重力加速度，μ為分散介質粘度，δ，δ''''分別為顆粒和分散介質密度。
當顆粒很小時，沉降速度很慢，例如顆粒半徑為1μm在不同的分散介質中，其沉降速度為3—5μm／S。在冷凍的過程中，由於時間很短，不致於產生沉積現象。
對於納米(nm)級磨料，理論上都屬於膠體顆粒，實際上總是懸浮在液體介質中，沒有沉積作用。所以，我們可以制成顆粒均勻、分散性良好的低溫固體拋光模層。近年來發展的溶膠——凝膠(Sol——Gel)技術給我們提供了所需要的磨料，本實驗使用SiO2作磨抖制作拋光波。

總之，淺低溫冰模層拋光得到了較好的拋光效果，拋光效率也比較高的實驗結果，我們認為：
(1)淺低溫拋光時，拋光磨料被固著在冰模層裏，是“固體”，所以可適當提高工件主軸的轉速，例如提高到每分鐘幾百轉，而普通傳統拋光機器轉速是受到限制的，否則磨料外溢，反而效果不好。
(2)冰模層和工件相接觸並作相對運動產生切削作用，不斷的去除工件材料。另一方面冰模層和工件接觸摩擦生熱，冰模層不斷熔化，在冰和工件之間形成一層水膜。這時和常規拋光相似，磨料以波動方式對材料進行去除，同時，未熔化的冰中所含的磨粒還有固著磨料的切削作用，直到磨粒脫落。所以，低溫拋光的切削作用大於普通瀝青盤拋光的去除作用，所以，冰模層拋光效果和去除率都比較好。
(3)淺低溫拋光，我們使用的拋光模盤溫度在一30～一50℃。拋光過程中，拋光模盤、工件都在我們人為創造那個小低溫空間內，但工件和冰鎮層的接觸面上，由於生熱而形成的某種高溫，還原了拋光波的液體狀態，拋光液對工件的水解作用照常進行，水解作用有利於材料的去除，所以和常規拋光一樣，低溫拋光同樣是機械化學拋光。

表面流動理論：

玻璃表面由於摩擦和相對運動產生熱量，致使表面產生塑性流動，使表面凸起將凹陷填平。驗主要依據是：

玻璃表面分子的流動而掩蓋了劃痕

拋去玻璃的重量與拋去玻璃的厚度不對應

軟化點高的玻璃，拋光效率低

對於金屬不銹鋼表面的拋光主要用電解使其表面發生變化，從而達到拋光的目的。

定義：不銹鋼電解拋光是以被拋工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時浸入到電解槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，工件表面逐漸整平，從而達到工件增大表面光亮度的效果。

原理：

不銹鋼電解拋光原理被大家公認的主要為黏膜理論。該理論主要為：工件上脫

的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過程。

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