PHI X 射線光電子能譜儀VPII-XPS_上海禹重實業有限公司

品牌：PHI

規格：正常規格

產地：日本

X 射線光電子能譜（XPS）是材料科學和發展的領域中廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束（一般會使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能，再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能，從而也就可知道樣品表面是何物質。

The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供的微區光譜，化學成像，二次電子成像，其小的X射線束光柵掃描直徑約為10微米。X射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設定，從而達到好的空間解釋度與高的靈敏度。VP-II 可以輕易的對不管是導體或非導體獲取化學態的成像或是離子濺射的深度分析，樣品例子如催化劑，金屬和電子設備，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和組織等等。

VP-II 維持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力，包括掃描和聚焦 X 射線，專利的離子與電子雙中和係統，以及可以在極低電壓也可工作的能離子槍；另有可選項配置C60離子槍，提供了許多有機材料而強大的濺射深度剖析能力；另外，一個完全自動化的五軸樣品操盤多個樣品的自動分析並提供Zalar旋轉“Zalar RotationTM”的能力，可配合氬氣離子束或可選項配置的C60來進行濺射深度剖析。後，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技術儀器控制一個易於使用的平臺。在數據解釋和操縱總結中，對VP-II 的性能有著明顯的提高。