激光氨逃逸分析係統,氨逃逸設備_山東新澤儀器有限公司

品牌: SINZEN（新澤儀器）

型號:TK-1100型

廠家:山東新澤儀器有限公司

一、產品概述（煙氣氨逃逸監測分析儀係統（高溫抽取激光)）

脫硝氨逃逸一體化在線監測係統（TK-1100型）是由我公司榮譽出品，本係統包括預處理係統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。本係統取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本係統基本原理是基於紫外差分吸收光譜（DOAS）技術及可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互幹擾；激光光譜氣體分析技術已經廣泛應用到對於靈敏度、響應時間、背景氣體免幹擾等有較高要求的各種氣體監測領域。

本公司生產的脫硝氨逃逸一體化在線監測係統（TK-1100型）且易於安裝，特別適用於眾多環保及工業過程氣體排放監測，包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

在大規模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或後燃（post combustion）NOX 控制技術的脫硝裝置，後燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內注入氨與氮氧化物發生反應，產生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區的空間分布便可以大化的降低NOX 排放。

氨注入的過少，就會降低還原轉化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區，逃逸的NH3 會與工藝流程中產生的硫酸鹽發生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下遊固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，並因此帶來昂貴的維護費用。在反應區注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現氨逃逸現象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現象和很嚴重的問題。

2.2氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位於脫銷下遊的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；

三、規格與技術參數

指標	測量範圍	0-10.0ppm，0-50.0ppm 可根據用戶需求設定
	響應時間	<20s
	線性誤差	<1%F.S
	零點漂移	可忽略
	重復性	1%F.S
	標定	出廠時已標定，無需定期標定
輸入和輸出信號	模擬量輸出	4-20mA電流環，750ΩMax，隔離
	報警輸出	濃度超限、溫度異常、係統故障均報警
	繼電器輸出	2路（可擴展），觸點負載24V，2A
	通訊接口	RS485，雙端隔離
工作條件	環境溫度	(-20)～50℃
	保護等級	IP54
	工作電壓	200V-240VAC，50Hz
	電源功耗	3000W
	預熱時間	1小時
	伴熱溫度	180℃～240℃
	採樣流量	2～20L/min（可根據用戶需求定制）
尺寸	機櫃	1000×1200×600mm（默認尺寸）

四、氨逃逸係統流路簡介

本係統的流路主要由測量流路、反吹流路、標定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

係統進入測量狀態後，電動執行機構帶動兩通球閥切換到採樣氣路，在引流泵的作用下，被測氣體經由探頭桿、，兩通球閥、二級過濾器進入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術（TDLAS）對氣體進行分析，得到NH3的濃度（高溫熱濕法），後排空。

係統定時會進入校準狀態進行自動調零，此時兩通球閥切換到校準氣路，校準電磁閥打開，在引流泵的作用下，環境空氣經過濾器、校準電磁閥後進入氣體室，對氣體室中殘留的被測氣體進行吹掃，吹掃幹凈後，對NH3進行一次調零；係統定時會進入反吹狀態對採樣探頭進行反吹，此時兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，係統自動控制反吹電磁閥開或關，實現對探頭過濾器的反吹。