鏈條拋光機PLC配置 人機界面
一種精密雙面拋光機，包括機架、主軸傳動機構、上拋光盤傳動機構，主軸傳動機構連接下拋光盤、內齒圈、外齒圈以及與上拋光盤配合的連接件，內齒圈與外齒圈之間嚙合用於放置工件的行星輪，上拋光盤傳動機構位於主軸傳動機構的上方，上拋光盤傳動機構包括安裝在機架上的驅動裝置，驅動裝置帶有活塞桿，活塞桿與上拋光盤連接，採用四個變頻電機拖動上下拋盤、內齒圈、外齒圈的四動拋光原理來進行傳動係統的設計，且採用軸套結構使四軸同心；驅動裝置連接用於調節加載壓力大小的壓力調節閥，在活塞桿與上拋光盤的連接處安裝壓力傳感器，能夠控制上拋光盤的壓力。本發明結構緊湊、可實現無級調速、加工過程平穩性佳、可有效提升拋光效率
精密雙面拋光機的控制係統
一種精密雙面拋光機的控制係統，包括拋光機精密控制器、與驅動上拋光盤轉動的第一變頻電機連接的第一變頻 器、與驅動太陽輪轉動的第二變頻電機連接的第二變頻器、與驅動下拋光盤轉動的第三變頻電機連接的第三變頻器、與驅動外齒圈轉動的第四變頻器、安裝在各個變 頻電機的主軸上的轉速傳感器，以及調節驅動壓力大小的壓力調節閥和安裝在氣缸的活塞桿與上拋光盤之間的壓力傳感器。所述的拋光機精密控制器包括電機轉速調 節模塊、電機轉速控制模塊、上拋光盤壓力控制模塊。本發明可實現無級調速、調節上拋光盤的壓力、加工過程平穩性佳、可有效提升拋光效率。
雙面拋光機加工理論及工藝優化的研究
隨著微電子技術和信息技術的飛速發展，對各種光電子元件的加工要求越來越高，如何地獲得光電子晶片超平滑無損傷表面已成為超精密拋光加工技術的研究方向，目前我國超精密加工研究與應用水平還落後於工業技術發達國家，因此開發具有自主產權的超精密雙面拋光機、同時開展晶片雙面拋光加工工藝技術的基礎研究，為新研制的雙面拋光機提供優化的加工工藝參數具有很重要的現實意義。 本文根據超精密加工機床設計要求，提出了雙面拋光機總體設計方案，在分析精密雙面拋光機的控制要求及設計方案的基礎上，研制了超精密雙面拋光機的控制係統，詳細介紹了實現該機控制的各部分硬件係統、自動加工控制流程和人機交互的控制界面，並對研制的設備進行了運行及檢測。 通過研究晶片、拋光墊與行星輪三者之間的運動關係，建立了行星式雙面拋光運動軌跡數學模型，利用MATLAB軟件分析了不同位置、不同拋光盤轉速、不同轉速比下的相對運動軌跡狀態及對拋光質量的影響，然後根據研究拋光盤上的任一點相對工件運動軌跡密度分布均勻來建立拋光均勻性函數，並通過倣真研究得出影響工件拋光均勻性的關鍵因素。 後，本文研究雙面拋光加工工藝參數如拋光盤轉速、壓力、拋光液種類、濃度和溫度等對拋光效果的影響。在新研制的超精密雙面拋光機上進行單晶硅雙面拋光加工實驗，通過優化單晶硅雙面拋光加工工藝參數，實現單晶硅材料晶片的率、超光滑表面加工。
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豫公安備 41010502000017號