品牌:亨士樂 | 規格: | 產地:德國 |
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OMRON歐姆龍D4N-8D72RAMC對當前的IC生產其潛在的污染比粒子污染要廣泛多,粒子污染控制只要確定粒徑及個數,但對AMC控制而言,除了受芯片線寬的縮小而變化外,並受工藝、工藝設備、工藝材料及園片傳送係統等的影響,有甚者用於某一工序的各種工藝材料(化學品、特種氣體等)在多情況下其微量的分子對下一工序往往可能是污染物,而園片加工工序當前已多於3多個獨立工序,對AMC控制指標的確定是復雜。IC生產對AMC的控制,對不同的產品、不同的工藝、不同的工序及不同的工藝材料會有不同的要求,對各種污染物質的要求當前總的說法是控制在亞pptm∼1pptm間。