供應真空鍍膜電源，離子鍍膜電源_成都凱德力電子科技有限公司

品牌：KDL

規格：立式/臺式

產地：成都

本公司生產的真空鍍膜電源（真空蒸發鍍膜電源和真空濺射鍍膜電源）有以下特點：

1、恒流輸出，不隨氣壓變化。

2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能, 具有的負載匹配能力。

3、工藝重復性好。

4、提高成膜速度，實現高質量的濺射膜層。
詳細說明：
真空鍍膜電源

真空鍍膜行業不同於以往的電鍍行業，屬於物理方式的表面處理行業。廣泛用於各種金屬及非金屬鍍膜裝置，涂鍍光元件、微電子元件、磁性元件、鐘表、種類裝飾材料、體育用品、精密工模具、薄膜包裝等鍍膜制品，以及應用於現代工業、航空航天航海等軍事領域的鍍耐蝕膜、耐磨損膜、固體潤滑膜裝置。真空鍍膜過程非常復雜，由於鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度（HV,UHV）而擁有統一名稱。真空鍍膜主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。

一、對於蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。

二對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。
真空鍍膜電源是真空鍍膜設備的重要組成部分。例如在真空濺射設備中就是由濺射室、磁控濺射靶、對向磁控靶、射頻電源、直流電源、樣品加熱轉臺、真空獲得及測量係統、電控係統、氣路係統、微機控制膜層係統等組成。

本公司自主研發生產的真空鍍膜電源，成功地運用了優異的脈寬調制技術（PWM），引進三菱、富士等國外先進的IGBT核心執行元件，大功率機器採用結構均流技術，並配以各種完善的保護功能，使得高頻開關電源可靠性問題得到了圓滿解決，滿足低紋波要求，且體積小、重量輕、節能環保，是一種性價比優異的直流電源產品，也是可控硅整流電源的替代品。

· 技術參數

品名	真空鍍膜電源
型號	SPWM係列
輸入	相數	單相或三相
	電壓	220/380V
	頻率	50Hz
	輸入方式	4線（含地線）
輸出	波形	直線
	功率	30KW /60KW /100KW（可定制）
	電壓	0—1200V（可定制）
	穩定度	1%
	電流	0—200A（可定制）
	穩定度	1%
	紋波及雜訊	5%或 3%
	效率	90%
控制	功率	可選擇
	電壓	恒壓控制，可本地控制也可通過0-10V或4-20mA
	電流	可選擇
保護	具備缺相、過熱、限壓、恒功率、過壓、過流、短路、超載等保護功能
冷卻	風冷
外型	外殼
外型	尺寸(WDH)	482.6mm600mm266.7mm（30KW）
重量	30KG（30KW）
備注