| 品牌：CNBM | 規格：定制 | 材質：氧化鋅 |
| 產地：成都 |
各種靶材用於磁控濺射工藝制備銅銦鎵硒(CIGS薄膜) 碲化鎘(CdTe薄膜) 各種化合物濺射靶材
（聯係人：冉松林，電話：13541048799，郵箱：：122686839）
一，四元合金靶材：CIGS 靶材
1，常規原子比：1：0.7：0.3：2或者 1：0.8：0.2：2（客戶亦可根據自身工藝制訂原子比例）
技術對接：CVD合成四元合金（高精分析天平稱量，各種元素的配比公差低於百萬分之一）--氮氣保護下研磨制粉–HP（熱壓）--檢驗—打磨，拋光。
2，檢驗：ICP-MS；XRD
通過ICP-MS 檢測雜質含量：5N的CIGS 靶材的雜質元素總和小於10ppm.
通過XRD衍射：CIGS 具備閃鋅黃銅礦結構。（可提供檢驗報告（見下）和樣品）。
3，靶材致密度：大於93%。
4，服務：可免費提供導電玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用於客戶後的硒化工藝，因為磁控濺射CIGS的過程中有硒的流失。
5，防護措施：提供MSDS及濺射過程中的必要防護。
二，三硒化二銦（In2Se3）靶材；三硒化二鎵（Ga2Se3）靶材，硒化亞銅（Cu2Se），或者硒化銅（CuSe）靶材
技術對接：CVD 合成二元合金–HP（熱壓）--檢驗—打磨，拋光。
三，銅鎵（CuGa）；銅銦（CuIn）；銅鎵銦（CuGaIn）靶材
*配方原子比例：客戶可自選，我方亦可以提供常規原子比例。
四，銅（Cu）靶；銦（In）靶，硒（Se）靶
技術對接：澆鑄
五，CIGS 配套靶材
N型：硫化鎘（CDS）靶，硫化鋅（ZnS）靶，硒化鋅（ZnSe）靶。
氧化鋅鋁（AZO）靶，鉬（Mo）靶
1，由於硫化鎘有毒，所以硫化鋅，硒化鋅靶為其替代品。試驗表明硒化銦也有此屬性。
2，硫化鎘，硫化鋅，硒化鋅制備工藝：CVD 高純氬氣攜帶金屬蒸汽（鎘，鋅蒸汽）進入反應室與過量的H2S，H2Se 氣體氣相沉積而成。
六，碲化鎘（CdTe）靶材；硫化鎘（CdS）靶材；
高致密，高純度
碲化物靶材：碲化鉍（Bi2Te3）靶材；碲化銻（Sb2Te3）靶材；碲化鋅（ZnTe）靶材；碲化銅（CuTe）靶材；碲化鉛（PbTe）靶材；碲化銦（InTe）靶材；碲化鎘（CdTe）靶材等
硒化物靶材：硒化鉍（Bi2Se3）靶材；硒化銅（CuSe）靶材；硒化鉛（PbSe）靶材等
銻化物靶材：銻化銦（InSb）靶材；銻化鎘（CdSb）靶材；銻化鋅（Zn4Sb3）靶材等
硫化物靶材：硫化鋅（ZnS）靶材；硫化銦（In2S3）靶材；硫化鎘（CdS）靶材；硫化鉍（Bi2S3）靶材等
氧化物靶材：氧化鋅（ZnO）靶材；氧化鎵（Ga2O3）靶材；氧化銦（In2O3）靶材等
氮化物靶材：氮化銦（InN）靶材；氮化鎵（GaN）靶材
豫公安備 41010502000017號