品牌:眾誠新材 | 規格:φ6*6mm/3*3mm | 材質:高純鋁 |
產地:北京 | 純度:99.999% |
北京眾誠新材科技專業從事高純金屬材料生產加工,採用區域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結,電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達到99.9%-99.999%,產品品質高,使用效果穩定。
高純單質金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質金屬濺射靶材。
高純陶瓷化合物濺射靶材(3N-4N):ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3、氧化鐵靶Fe2O3、氧化鎳靶Ni2O3、氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5等高密度陶瓷濺射靶材。
備注:眾誠新材生產的陶瓷靶材採用先進的陶瓷生產工藝;惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術,相對密度大於95-99%,可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
多元合金靶靶材(3N-4N):鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,硅鋁合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦W-Ti,鐵鈷Fe-Co等高純合金濺射靶材。
備注:眾誠新材生產的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.99%),可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
高純單質熔煉鍍膜材料(純度3N-5N,顆粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等,絲材φ1.0mm、φ0.5mm等):金Au、銀Ag、鉑Pt、鈀Pd、鋁Al、鉻Cr、銅Cu、鎳Ni、鋯Zr、鉻Cr、鈦Ti、鈷Co、錫Sn、釩V、銻Sb、銦In、硼B、鎢W、錳Mn、鉍Bi、硅Si、鉭Ta、鋅Zn、鎂Mg、鈮Nb、鉬Mo等高純單質金屬顆粒。
陶瓷化合物蒸發顆粒(純度3N-4N,尺寸1-3mm):一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鋇、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發顆粒。