光刻膠去除劑 光刻膠剝離液 光刻膠去膠液 抗蝕劑剝離液 光刻膠清洗劑
產品概述：
光刻膠去除劑（光刻膠剝離液）PL1311是針對半導體晶圓芯片制造過程而設計，光刻膠層需要在制造過程結束時，從襯底表面去除。本品採用極性非質子有機溶劑、還原劑、阻蝕劑等成分，科學復配而成，水溶性好，表面張力低，清洗能力強，可以迅速去除光刻膠殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污，不引入任何污染物，潔凈度高，對各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線無腐蝕，無毒無刺激性氣味，環保，對人體與環境友好。
適用範圍：
光刻膠剝離液（光刻膠去除劑）PL1311用於去除正型光刻膠，以及用於負片的返工處理。適用於半導體晶圓表面、LCD/OLED加工的光刻膠和CMOS圖像傳感器等返修芯片的紅膠，以及電子設備、電子儀器的清洗。
產品特點：
1.去膠速度快，去膠能力強，可迅速去除晶圓表面和襯底金屬表面的光刻膠等殘留物；
2. 光刻膠去除劑（光刻膠剝離液）去除金屬離子污染物、粉塵顆粒物，無殘留；
3.材料相容性好，對襯底材料及金屬布線無腐蝕性；
4.無毒無刺激，不燃不爆，不含ODS（臭氧層破壞物質），符合歐盟RoHS標準。
產品參數：
外觀（原液) ：無色透明液體
比重 ：1.06±0.01
PH值 ：10—11
氣味 ：無
使用方法：
光刻膠去除劑（光刻膠剝離液）PL1311根據不同要求原液或稀釋使用，稀釋比例不超過20倍；使用前請咨詢我司技術人員！
溫度：50-60℃
時間：5-10分鐘
注意：清洗設備建議選擇高頻超聲波清洗，避免震傷產品。
注意事項：
如不慎進入眼中應立即用清水衝洗，人工清洗時，請配戴防護手套；
儲存於陰涼幹燥處，避免陽光直射
包裝規格：
1加侖/桶
豫公安備 41010502000017號