產品描述
平板狀氧化鋁拋光粉是以工業氧化鋁粉為原料，採用特殊生產工藝處理，生產出來的氧化鋁拋光粉晶體形狀呈六角平板狀，因而稱之為平板狀氧化鋁或片狀氧化鋁。
平板狀氧化鋁的氧化鋁純度 99%以上，具有耐熱，耐酸鹼腐蝕，硬度高的特點。與傳統磨料球形顆粒不同，平板狀氧化鋁的底面平整，研磨時顆粒貼合工件表面，產生滑動的研磨效果，避免了顆粒尖角對工件表面的劃傷，另一方面，平板狀氧化鋁進行研磨時，研磨壓力是均勻分布在顆粒表面，顆粒不易破碎，耐磨性能提高，從而提高了研磨效率和表面光潔度。
產品特點
對於半導體材料如半導體硅片，平板狀氧化鋁的應用，可以減少磨削時間，大幅提高研磨效率，減少磨片機的損耗，節省人工和磨削成本，提高磨削合格率。品質接近國外品牌。
顯像管玻殼磨削工效提高 3-5 倍；
合格品率提高 10-15%，半導體硅片合格品率達到 99%以上；研磨消耗量比普通氧化鋁拋光粉減少 40-40%；
化學成分
Al2O3 | Fe2O3 | Na2O | SiO2 |
99.0% | ＜0.1 | ＜1 | ＜0.2 |
物理特性
莫氏硬度 | 比重 | 顆粒形狀 | 晶相 |
9.0 | 3.90g/cm3 | 平板狀/片狀 | α-AL2O3 |
產品粒度範圍：
規格 | D3(um) | D50（um） | D94（um） |
HXTA45 | 50.5-56.2 | 33-38.5 | 20.7-24.5 |
HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
包裝：10 公斤/袋，20 公斤/箱
主要用途：
- 電子行業 ： 半導體單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體（砷化鎵、磷化銦）的研磨拋光。
- 玻璃行業 ： 水晶，石英玻璃，顯象管玻殼屏，光學玻璃，液晶顯示器（LCD）玻璃基板，壓電石英晶體的研磨加工。
- 涂附行業 ： 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
豫公網安備41010502000017號 
